2ちゃんねる ★スマホ版★ ■掲示板に戻る■ 全部 1- 最新50  

■ このスレッドは過去ログ倉庫に格納されています

●スパッタ使い集まれ!●

1 :名も無きマテリアルさん:02/03/04 21:46
スパッタで何を作製してますか?

2 :名も無きマテリアルさん:02/03/04 22:37
IBSでPFN

3 :名も無きマテリアルさん:02/03/04 22:53
PFNって何?

4 :名も無きマテリアルさん:02/03/05 00:02
ところでターゲットはどこから買ってる?

5 :名も無きマテリアルさん:02/03/05 11:15
コンビニ

6 :Y本:02/03/05 11:27
東名道伝馬区伊藤をつくってまふ

7 :ふにふに:02/03/05 11:40
>>4
プレス器で自分でつくる。
三菱マテリアルのは高い

8 :名も無きマテリアルさん:02/03/05 17:27
合金薄膜してる

9 :名も無きマテリアルさん:02/03/05 23:26
>>3 PFNは、Pb(Fe1/2Nb1/2)O3のPb系ペロブスカイト化合物です。

10 :なんでも略すなボケ!!:02/03/05 23:46
2よ、IBSはイオンビームスパッタなのだな。
PFNそんなマイナーなものは聞いたことない。
もっとメジャーなペロブスカイトはいくらでもあるだろ
チタバリとか。。。

11 :名も無きマテリアルさん:02/03/06 00:08
モナーとか作ってる

12 :2:02/03/06 01:21
>>10 スマソ。確かに略しすぎるのはあまりよくないですね。

13 :名も無きマテリアルさん :02/03/06 16:35
アルミナ

14 :名も無きマテリアルさん:02/03/06 17:26
アルミナってアルミの原料となるやつだっけ?

15 :名も無きマテリアルさん:02/03/06 18:50
アホは氏んでくれないかなぁ

16 :名も無きマテリアルさん :02/03/06 19:09
アルミナはアルミの表面にできる酸化膜です。

17 :名も無きマテリアルさん:02/03/06 21:01
アホは氏んでくれないかなぁ



18 :名も無きマテリアルさん:02/03/06 22:52
ボーキサイトと勘違いした。。鬱だ。

19 :名も無きマテリアルさん:02/03/07 16:22
Ge/Siの多層膜作ってるよ。
IBSやってる人たち
加速グリッドとターゲットの電位の関係教えてくれませんか?
イオンガン=アース
加速グリッド=−5kV
タ−ゲット=-10kVの
うちの器材はおかしいとおもうのですがどうですか?

20 :名も無きマテリアルさん:02/03/07 17:14
金属膜やってる人はいないのか?

21 :名も無きマテリアルさん:02/03/08 02:53
昔BaTiO3のスパッタやってたよ。Fe-RAM向けの高誘電体膜作るのに。

単なる高周波プラズマに磁界かけてイオン密度上げてましたが。
バイアスで基板もたたき、イオン衝撃のパッキング効果で
低温結晶化を狙ってました。基板温度200度で結晶化した。
でも、イオン衝撃ゆえ内部欠陥が多くて、バルク比の誘電率は悪かったなぁ

今はゾルゲルかcat-CVDのほうが基板に低ダメージでいいみたいだね。

22 :名も無きマテリアルさん:02/03/08 23:33
膜厚測定はどうやってる?
うちは水晶振動子で測定してるけど、精度が悪そうで・・・

23 :名も無きマテリアルさん:02/03/08 23:41
>>22
Q振動子はあくまで目安じゃないかな?
後はエリプソや膜厚計できっちり詰めると。

24 :名も無きマテリアルさん:02/03/08 23:51
http://www.inkando.com/cgi-rankingplus/rankin.cgi?id=0511030508

25 :名も無きマテリアルさん:02/03/15 11:02
FTS、マンセー


26 :名も無きマテリアルさん:02/03/15 12:12
ヘリコンマンセー

27 :名も無きマテリアルさん :02/03/23 03:11
削ってる。
ただ、ひたすら削る

28 :名も無きマテリアルさん:02/04/15 11:36
>>22
水晶振動子使うと便利だね
でも掃除中に腕が当たったりするとまた設定し直さないといけない。

29 :名も無きマテリアルさん:02/04/15 21:53
めんどくないっすか

30 :名も無きマテリアルさん:02/05/07 16:44
確かにめんどい

31 :名も無きマテリアルさん:02/05/07 23:37
水晶振動子は精度イマイチ
透明膜なら透過or反射でin-situモニタがええの


32 :名も無きマテリアルさん:02/05/25 02:37
RHEEDとか使ってる方いません?

33 :名も無きマテリアルさん:02/06/09 18:10
age

34 :名も無きマテリアルさん:02/06/24 20:22
3○1○使ってる人っていますか?

35 :名も無きマテリアルさん:02/07/22 01:43
DCを買おうか、RFを買おうか
もっといいものは無いのか?
ECRか?マイクロ波電源高いのか?

36 :名も無きマテリアルさん:02/07/23 06:05
>>35
対向ターゲットもお忘れなく!

37 :名も無きマテリアルさん:02/08/27 16:34
>>31  精度いまいち
ハゲドウ

38 :名も無きマテリアルさん:02/08/28 05:30
セラミックスの薄膜作ってます。
できた膜はもろ干渉縞が見えるんですけど、
膜厚を均一にする簡単な方法ってないんですかねぇ……


39 :名も無きマテリアルさん:02/09/20 00:18
>>32
お前、俺と同じ・・・・

40 :名も無きマテリアルさん:02/09/20 00:51
>>38
基板を高速回転させるってのはダメ?

41 :名も無きマテリアルさん:02/09/20 23:05
セラミック上に金属膜をスパッタする時、
スパッタ前にプラズマ処理すると金属膜の付着力って
あがるのですか?

42 :名も無きマテリアルさん:02/10/19 08:41
age

43 :名も無きマテリアルさん:02/10/19 11:19
>>41

スパッタ法じゃないけど、イオンビームでクリーニングするよ。
しないと、気持ち悪い。
やりすぎても、良くないような気がする。

44 :名も無きマテリアルさん :02/10/20 08:41
>41
場合によっては上がるかもね。有機物が飛んでるんでしょう。

45 :名も無きマテリアルさん:02/10/21 00:10
チタンクリーンウェハーに代わるウェハーをクダサイ

46 :山崎渉:03/01/06 15:45
(^^) 

47 :名も無きマテリアルさん:03/01/06 19:38
質問版じゃないのに質問して悪いのですが、
ターゲットにぶつかるArの数とターゲットから出てくるIn2O3の数は、どのような
関係にあるのか教えてください。
お願いします。

48 :名も無きマテリアルさん:03/01/09 22:10
スパッタって堆積速度速いの?
毎分1μm位いくの?

49 :名も無きマテリアルさん:03/01/12 01:40
>>48 いかないよ。よくてその1/100。

50 :名も無きマテリアルさん:03/01/22 17:04
>48
俺は2時間やって200nmだなぁ。

ところで、薄膜作るのに、スパッタの利点ってナニ?
他にもCVDとかで薄膜って作れるよね?
物性初心者なもんで・・・

51 :幹部社員様@F通電デバ:03/01/22 22:36
スパッタ〜?何だ、そりゃ?
金にもなりゃしない
こりゃ、傑作、ひゃっひゃっひゃ

52 :名も無きマテリアルさん:03/01/22 22:47
>>51
死ね
http://mnfuji2.hp.infoseek.co.jp/

53 :名も無きマテリアルさん:03/01/24 10:22
>>50
薬品とかに浸さないからスパッタしたい材料が変質しない。
薬品を使わないCVDプロセスより低温で済むっていうのも変質しない理由かな。
堆積速度は惨敗だけどね

54 :名も無きマテリアルさん:03/01/24 12:56
>>50
MBEやCVDに比べるとメンテも含めてお手軽
薄膜作製方でも群を抜くコストの安さ
大面積の膜が作れる
かと・・・


55 :世直し一揆:03/01/24 13:39
<血液型A型の一般的な特徴>(見せかけの優しさ・もっともらしさ(偽善)に騙され
るな!)
●とにかく気が小さい(神経質、臆病、二言目には「世間」、了見が狭い)
●他人に異常に干渉する(しかも好戦的・ファイト満々でキモイ、自己中心)
●自尊心が異常に強く、自分が馬鹿にされると怒るくせに平気で他人を馬鹿にしようとす
る(ただし、相手を表面的・形式的にしか判断できず(早合点・誤解の名人)、実際には
たいてい、内面的・実質的に負けている)
●本音は、ものすごく幼稚で倫理意識が異常に低い(人にばれさえしなければOK)
●「常識、常識」と口うるさいが、実はA型の常識はピントがズレまくっている(日本
の常識は世界の非常識)
●権力、強者(警察、暴走族…etc)に弱く、弱者には威張り散らす(強い者に弱く
、弱い者には強い)
●あら探しだけは名人級(例え10の長所があってもほめることをせず、たった1つの短所を見つけてはけなす)
●基本的に悲観主義でマイナス思考に支配されているため性格がうっとうしい(根暗)
●一人では何もできない(群れでしか行動できないヘタレ)
●少数派の異質、異文化を排斥する(差別主義者、狭量)
●集団によるいじめのパイオニア&天才(陰湿&陰険)
●悪口、陰口が大好き(A型が3人寄れば他人の悪口、裏表が激しい)
●他人からどう見られているか、人の目を異常に気にする(「世間体命」、「〜みたい
」とよく言う)
●自分の感情をうまく表現できず、コミュニケーション能力に乏しい(同じことを何度
も言ってキモイ)
●表面上意気投合しているようでも、腹は各自バラバラで融通が利かず、頑固(本当は
個性・アク強い)
●人を信じられず、疑い深い(自分自身裏表が激しいため、他人に対してもそう思う)
●自ら好んでストイックな生活をし、ストレスを溜めておきながら、他人に猛烈に嫉妬
する(不合理な馬鹿)
●執念深く、粘着でしつこい(「一生恨みます」タイプ)
●自分に甘く他人に厳しい(自分のことは棚に上げてまず他人を責める。しかも冷酷)
●男は、女々しいあるいは女の腐ったみたいな考えのやつが多い(例:「俺のほうが男
前やのに、なんでや!(あいつの足を引っ張ってやる!!)」)

56 :名も無きマテリアルさん:03/02/08 11:07
>>50
成膜中の安定度が良いところかなぁ? まあ、それが必要な場合って
それほどないんだけど..
IBSD つかってるんだけど 時間制御だけで厚さ10nm の膜の成膜で
膜厚誤差 1% 工夫してやって0.2% まで 追い込めました。


57 :名も無きマテリアルさん:03/03/05 13:23
干渉縞ってなんですか?質問ですいません

58 :名も無きマテリアルさん:03/03/05 13:25
ターゲット作ってるんだけど割れるよー・・・・。
皆様は何dぐらいで押されているのでしょうか?
バインダーとか使っているのでしょうか?

59 :山崎渉:03/04/17 09:42
(^^)

60 :山崎渉:03/04/20 04:13
   ∧_∧
  (  ^^ )< ぬるぽ(^^)

61 :山崎渉:03/05/21 22:10
━―━―━―━―━―━―━―━―━[JR山崎駅(^^)]━―━―━―━―━―━―━―━―━―

62 :山崎渉:03/05/21 23:28
━―━―━―━―━―━―━―━―━[JR山崎駅(^^)]━―━―━―━―━―━―━―━―━―

63 :山崎渉:03/05/28 14:45
     ∧_∧
ピュ.ー (  ^^ ) <これからも僕を応援して下さいね(^^)。
  =〔~∪ ̄ ̄〕
  = ◎――◎                      山崎渉

64 :名も無きマテリアルさん:03/07/11 00:04
FePt合金膜作ってます。


65 :山崎 渉:03/07/12 12:23

 __∧_∧_
 |(  ^^ )| <寝るぽ(^^)
 |\⌒⌒⌒\
 \ |⌒⌒⌒~|         山崎渉
   ~ ̄ ̄ ̄ ̄

66 :山崎 渉:03/07/15 12:45

 __∧_∧_
 |(  ^^ )| <寝るぽ(^^)
 |\⌒⌒⌒\
 \ |⌒⌒⌒~|         山崎渉
   ~ ̄ ̄ ̄ ̄

67 :名も無きマテリアルさん:03/07/22 16:39
>>50
30minで数百ナノいきまちた。>>某ペロブスカイト

68 :ぼるじょあ ◆yBEncckFOU :03/08/02 03:17
     ∧_∧  ∧_∧
ピュ.ー (  ・3・) (  ^^ ) <これからも僕たちを応援して下さいね(^^)。
  =〔~∪ ̄ ̄ ̄∪ ̄ ̄〕
  = ◎――――――◎                      山崎渉&ぼるじょあ

69 :山崎 渉:03/08/15 18:26
    (⌒V⌒)
   │ ^ ^ │<これからも僕を応援して下さいね(^^)。
  ⊂|    |つ
   (_)(_)                      山崎パン

70 :名も無きマテリアルさん:03/09/11 23:17
プレスパだり〜よ〜

71 :名も無きマテリアルさん:03/11/18 11:06
スーパーマロイ薄膜を作りたいんだけど、2μくらい堆積させると膜が基板から
剥がれてしまう。これじゃ厚すぎるのかな?

72 :superman:04/03/07 21:00
sithdquu.ddfrff,

73 :super:04/03/07 21:07
スーパーマーケッツ・ゼネラル ((米国のスーパーマーケット会社)).


74 :名も無きマテリアルさん:04/03/31 12:57
ttp://ftvjapan.ddo.jp/~funa/sha/s-data/angelarea/img/o20040303215331zm6.jpg

75 :age:04/04/08 23:49
>22
水晶振動子はあくまでも目安。
干渉計かエリプソがベター

>38

どうしてもエロージョンの部分が厚くなるからねぇ。
マグネトロンスパッタなら、なるべく水平磁場を増やすとかか・・
>41
基板が何のセラミックか知らないけど、基板と作製膜の
応力を考えてみたら?あとは、作製膜の格子定数に近い
金属をアンダレイヤにするとか。

>48
最近はNiで1μは越えるみたいだぞ?

>64
同じくFePt膜作ってます。
最近as-depo.で垂直磁化膜できたぞ!
保磁力はアボンだが・・・

そのうちAPLに飛ばすから、ご期待あれw



76 :名も無きマテリアルさん:04/04/09 12:18
膜圧なんてSEMで計ればええやん。

77 :名も無きマテリアルさん:04/04/22 21:39
>>75 いつ投稿するんだい?期待age

>>76 確かにな。

78 :名も無きマテリアルさん:04/04/22 23:03
いんさいちゅうで測れないとな。

79 :名も無きマテリアルさん:04/06/02 02:29
>>57
ニュートンリングのこと?
それとも段差による干渉縞のこと?

>>58
作製法や材料にもよるだろうケド、圧力印加だけじゃ
きびしいのでは?プラズマシンタリングでもしてみれば?
もっともよっぽどコンディション整えないと、酸素だらけ
のターゲットになるだろうケド・・・・

>>76
SEMは目安でしかない。
ある程度の精度が欲しかったら、エリプソか干渉計。
ナノオーダーでの精度なら、小角XRDかな?
方法その他は自分で調べれ。

80 :名も無きマテリアルさん:04/06/03 22:30
密着強度ってどうやって測ってるの?

81 :名も無きマテリアルさん:04/06/04 19:52
>>80
いろいろ。教科書としては東大出版会の
『薄膜トライボロジー』あたりがおすすめ。

82 :名も無きマテリアルさん:04/06/05 15:13
SiO2スパッタ後の再成長がうまくいきません。
スパッタで基板表面に傷ついてるのかな?

83 :名も無きマテリアルさん:04/06/25 02:27
Pt/MgOすぱったエピ可能。Cuも可


84 :名も無きマテリアルさん:04/06/29 21:40
Alターゲットを使ってスパッタすると
何故かターゲットが黒色化。
ショボーン(´・ω・`)

85 :名も無きマテリアルさん:04/07/07 04:00
>>84
酸化してるよそれ。

86 :名も無きマテリアルさん:04/09/13 05:58:52
マイナス7乗トールまで半日かかりまつ

87 :名も無きマテリアルさん:04/09/15 02:30:30
>>86

ポンプどこの製品のどんなタイプ使ってるの?
真空計に吸着があるじゃなくって????



88 :名も無きマテリアルさん:04/09/17 11:05:28
ガラス基板にアルゴンガスだけで常温スパッタしてSiC膜を作ると、
なんでSiC膜は電気を通すようになるのですか?


89 :名も無きマテリアルさん:04/11/22 04:08:45
卒業できるかな・・・俺には無理だよ先生、ていうかこれホントに作れるのですか・・・

90 :名も無きマテリアルさん:2005/05/14(土) 16:07:50
TiO2

91 :まりい:2005/06/17(金) 13:00:31
アルミと炭素の複合膜作ってる人いない?

92 :ともひさ:2005/06/17(金) 13:06:50
硬度120GPaのCN膜作ってよ。

93 :ともひさ:2005/06/20(月) 19:16:43
帰るなよ・・・

94 :まりい:2005/06/22(水) 16:53:07
>>93
忙しいからしょうがないんでない?

95 :ともひさ:2005/06/22(水) 17:54:27
また名もなきピークを検出してしまった・・・。
そしてまた地味に更新してしまった。

96 :まりい:2005/06/22(水) 18:16:36
まず練習

97 :ともひさ:2005/06/22(水) 18:18:43
んじゃやっぱり練習

98 :まりい:2005/06/22(水) 18:22:21
rfスパッタどdcスパッタはどっちがいいの?

99 :まりい ◆qgLMAtxwBw :2005/06/22(水) 18:28:55
冷却水って水道水でホントにいいの?

100 :ともひさ ◆qgLMAtxwBw :2005/06/22(水) 18:30:30
ダメなの?

101 :◇ともひさ ◆qgLMAtxwBw :2005/06/22(水) 18:32:31
センスがいいでしょ?

102 :まりい:2005/06/24(金) 11:27:57
最近注目の薄膜ってなによ?


103 :ともひさ:2005/06/24(金) 11:29:40
切削する友人の図・・・
フェードアウトしてゆく・・・

104 :777:2005/06/29(水) 17:14:24
@干渉縞
  基板やそれ相応のものの、平面度を簡易的に測定するもので
  例えば、ガラスでもセラミックでもいいんだが、オプティカル
  フラットを乗せると、上から見たら縞が出来る。それが干渉縞。
A最近の流行
  GaNかな?ZnOでもいいね。
B水道水
  うーーん、チラーはいると思う。水道水なら朝晩で温度が変わる
  んでねぇ。またフィルターは必要だと思う。
Cポンプ
  クライオポンプだな
DSiC膜
  体積固有抵抗は10の何乗?温度上げれば体積固有抵抗値は下がるが・・
ECN膜
  工具に使用するの?
F酸化する
  Alはすぐ酸化するんでね(錆びる)一回表面をきっちり洗浄して
  やらないと酸化するんでしょね。アルマイト処理とかやってる?
G垂直磁気膜
  おーーいいねえ 小型HDDはこれでしょ?
H密着強度
  もっとも簡単なのは、カッターで傷を入れてセロテープを張って
  ぱっとめくる方法 これでもちゃんとしたです。クロスなんとか
  って方法。

 

105 :777:2005/06/29(水) 18:35:31
CNはGaNのバッファーになる?

106 :名無し:2005/07/01(金) 03:24:28
>基板が何のセラミックか知らないけど、基板と作製膜の
応力を考えてみたら?あとは、作製膜の格子定数に近い
金属をアンダレイヤにするとか。

基板のヤング率と膜のヤング率、温度、外形で
たわみは計算できると思う
基板の材質は何か?






107 :名も無きマテリアルさん:2005/07/08(金) 11:41:44
CNは工具で使いたいのだ!!

108 :名も無きマテリアルさん:2005/07/08(金) 20:30:23
GaNはバッファいらないよ

109 :名も無きマテリアルさん:2005/07/14(木) 19:26:34
あげ

110 :名も無きマテリアルさん:2005/07/14(木) 19:27:13


111 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 13:48:41
スパッタの長所と短所が知りたいです
教えてくださいませ

112 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 13:50:58
長所:シャッターの取り付けが楽しい。
短所:シャッターの掃除が面倒。



113 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 13:53:27
>>111
シャッターの取り付けって面白いんですか?
スパッタ以外の成膜方法はシャッター無いんですか?
シャッターを愛してるんですか?

114 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 13:56:39
一発で角度があうと最高である。
そして君の心のシャッターを開こう!!(゚∀゚)!!

世界中のシャッターに愛を!!

115 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 13:58:31
>>112

シャッター閉じるなよ。。。。
さびしいやんか。。。。


116 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 13:59:46
そしてターボリークしないでよ・・・

117 :名も無きマテリアルさん:2005/07/20(水) 23:26:19
スパッタでチタン電極つけられますか?

118 :名も無きマテリアルさん:2005/07/21(木) 02:01:30
>>117
報告例はくさるほどあるかと思われ。

119 :名も無きマテリアルさん:2005/07/21(木) 14:53:48
スパッタリングで半導体レーザの端面ARコーティングをしたいのですが、
ターゲット材料をご存知の方はいませんか?

120 :名も無きマテリアルさん:2005/07/21(木) 19:11:56
DCスパッタとRFスパッタならどっちがいいのかな?
カーボン系の薄膜作るとしたらの場合だけど

121 :名も無きマテリアルさん:2005/07/21(木) 20:36:54
>117
普通に可能だろ?酸化するほうがやっかい

122 :117:2005/07/22(金) 01:17:34
融点が高くてうちではできないようだ。
Eガン使えってさ。

123 :名も無きマテリアルさん:2005/07/22(金) 02:08:50
>>119-120
もう少し材料を限定しないと答えられないよ。
>>119
レーザに使う半導体の屈折率から、ARコートの光学条件を
満たす屈折率を持つ材料をまず探す。
後は濡れ性の問題などで絞っていく。
>>120
カーボン系は範囲広すぎ。
少なくとも絶縁膜をつけるのならば、DCはありえん。


124 :名も無きマテリアルさん:2005/07/22(金) 02:11:34
>>117
融点が高いからスパッタできないって言われたのか?
意味不明だぞ。

125 :名も無きマテリアルさん:2005/07/22(金) 11:15:11


126 :名も無きマテリアルさん:2005/07/25(月) 16:38:07
蒸着だってチタンならフィラメントから普通にサブリメーションするしな。
まあ真空度が悪いとそのままゲッタポンプになっちまうがw

127 :名も無きマテリアルさん:2005/07/27(水) 04:56:43
真空が引けねー!

128 :名も無きマテリアルさん:2005/08/01(月) 17:09:12


129 :名も無きマテリアルさん:2005/08/09(火) 15:29:16
     ∧_∧  ∧_∧
ピュ.ー (  ・3・) (  ^^ ) <これからも僕たちを応援して下さいね(^^)。
  =〔~∪ ̄ ̄ ̄∪ ̄ ̄〕
  = ◎――――――◎            

130 :名も無きマテリアルさん:2005/08/29(月) 04:33:29
スパッタ使いの皆さんに質問です。
膜の結晶性や付着強度は、スパッタされる原子/分子が基板に
衝突する際のスピード(運動エネルギーか)が大きいほどに良くなるみたい
ですけど、そうなるのは何ででしょうか?
あと、同じように基板温度も高いほうが良いとされるのは何でですか??

 

131 :名も無きマテリアルさん:2005/08/30(火) 00:58:35
成長中の膜表面での原子の運動が激しくなると、よりエネルギーの低い、
安定な位置に落ちつくから、というのが一番もっともらしい説明でせう。

ただエネルギーが大きいほど良いわけではない。大きすぎるとこんどは
成長が完了した下地にダメージが入ったりするので。温度も高すぎると
熱歪の問題とかいろいろ出てきますな。

23 KB
■ このスレッドは過去ログ倉庫に格納されています

★スマホ版★ 掲示板に戻る 全部 前100 次100 最新50

read.cgi ver 05.02.02 2014/06/23 Mango Mangüé ★
FOX ★ DSO(Dynamic Shared Object)